原子层沉积设备的特点和应用开发

原子层沉积设备的特点和应用开发

原子层沉积设备主要特点  

可与超高真空（UHV）系统（如XPS,STM）直接互联，实现样品原位分析与制备  

最多支持八种前驱体源、两路氧化/还原气路及三路载气，满足多样化、复杂的薄膜生长需求  

自动控温结合模糊算法自整定技术，控温精度达±1°C，确保工艺重复性与薄膜质量  

自动化控制系统支持用户自行编程，轻松实现各类复杂ALD生长工艺  

集成安全互锁报警功能，全面保障设备与操作人员安全  

中科艾科米的原子层沉积设备主要服务于以下前沿研究与工艺开发：  

催化剂精准设计：用于在原子尺度上设计金属催化剂，研究催化反应机理。  

粉体表面改性：这是其特色方向之一。设备能对毫克级到百克级的粉末样品进行均匀包覆，应用于催化剂、电池电极材料（如锂离子电池正/负极粉末）、药物粉末等领域的表面改性研究。  

微电子与光电子：沉积氧化物、氮化物等多种功能薄膜，用于器件制造。  

原位分析与制备联用：其部分型号可与超高真空（UHV）系统（如XPS、STM）直接互联，实现“沉积-分析”无缝衔接，避免样品暴露于空气而污染界面。