蒸发源各个型号的参数和作用

发表于:2026-10-22 17:08:41|本帖共 855 字 19
蒸发源各个型号的参数和作用
K-cell蒸发源(EffusionCell/电阻式加热蒸发源)  
K-cell是分子束外延(MBE)中**通用的蒸发源类型,中科艾科米在此基础上发展出了覆盖不同温区的完整系列。  
(1)标准/中温K-cell  
工作温度覆盖650–1400℃(部分配置为400–1400℃),适用于中等蒸气压材料;  
加热方式为钽丝加热,温度稳定性±0.1℃;  
一个突出设计是支持“口朝下”(FaceDown)安装,这对于沸点的1/3小于其熔点的特殊材料(如Se、Te等)尤为适用,可避免材料在出口处冷凝堵塞。  
(2)双灯丝K-cell蒸发源  
属于中温系列(400–1400℃)的增强型号,采用独立的双温区控温,每个温区单独可调,能有效防止材料在出口处冷凝,控温精度同样达到±0.1℃。  
(3)低温K-cell  
专为低蒸气压或热敏感材料设计,工作温度100–400℃(另有50–350℃版本),温度稳定性±0.1℃。主要面向MBE、表面科学、薄膜生长以及II-VI族半导体和太阳能领域的研究。  
从实际科研使用看,K-cell被广泛用于蒸镀Fe、Au、Ag、Se、Te等材料,是表面科学和催化研究中样品制备的基础工具之一。  
特种与专用蒸发源  
针对特定材料体系或实验场景,中科艾科米还提供了多种专用蒸发源:  
碱金属蒸发源:可在单法兰上集成3个独立的碱金属源,兼容Li、Na、K、Rb、Cs(适配SAES源,活性长度12mm),每个源**电流10A,烘烤温度200℃。  
三源有机物蒸发源:集成3个独立控温通道,工作温度50–350℃,温度稳定性±0.1℃,强调良好的热隔绝性以提升UHV系统效率,应用于有机物蒸发镀膜、多源掺杂等场景。  
三温区裂解源:面向As、Se、Sb、Te、Mg等高饱和蒸气压材料,裂解头核心温度**可达1100℃,采用模块化设计和分段式水冷,使团簇在裂解区充分获能,同时坩埚内保持初始温度。  
多坩埚蒸发源:采用可拆卸水冷管设计,法兰、坩埚台与水冷管可分离,更换蒸距时只需更换水冷管,避免了繁琐的整体拆装,增加了使用灵活性。

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