在测定吸附等温线之前，要除付出吸附剂表面的所有物理吸附物。为此，将表面暴露在高真高空中，所需的严格条件（温度和残压）依不同的气-固系统而异。在常规表面积测定中，一般不必除付出存在的所有化学吸附物。例如，羟基化氧化硅通常在-150℃下脱气。然而像沸石或活性这样的微孔吸附剂，为了从其最小的孔中除去物理吸附物，需要更高的温度（比如，350-400℃），在此温度下，通常脱气6-10小时就足以将残压减至-10-2pa..
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