电镜离子源参数规格

发表于:2026-8-26 17:04:30|本帖共 616 字 147
普通扫描电镜 SEM 只有电子枪,无离子源;我们常说的电镜离子源 = 聚焦离子束 FIB 离子源,搭载在 FIB-SEM 双束电镜、冷冻 FIB、氩离子抛光系统。
主流三类:Ga 液态金属离子源 LMIS(通用 FIB)、Xe 等离子 PFIB 离子源、He/Ne 气体场离子源 GFIS;另外还有氩离子切割仪 CP 宽束离子源。
液态金属离子源以高纯度镓为发射介质,将液态镓注入精密加工的漏斗形发射尖尖的端,在拉出高压电场作用下,形成稳定、聚焦性优异的镓离子束。产品专为聚焦离子束(FIB)设备设计,广泛兼容 Helios、Scios、Quanta、Strata 400、Crossbeam 等主流系列机型。
电镜离子源参数规格:
聚焦离子束(FIB)技术在半导体芯片制造领域扮演着至关重要的角色。它不仅能够进行精细的结构切割和线路修改,还能用于观察和制备透射电子显微镜(TEM)样品。在FIB技术中,金属镓被广泛用作离子源,这与其独特的物理特性密切相关。镓的熔点仅为29.76°C,这意味着在室温稍高的情况下,镓就能保持液态,便于操作。
上海瞬景科技有限公司成立于2024年底,量产线位于上海闵行佳通广场紧邻上海交大。瞬景科技的产品广泛应用于高分辨率扫描电子显微镜 (SEM)、透射电子显微镜(TEM)、半导体量检测设备(CD-SEM、 DR-SEM、EBI)、电子束光刻设备(EBL)等,下游覆盖芯片制造、纳米技术、量子计算、新材料研发、航空航天、生命科学、核能等多个战略性新兴产业。
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