原子层沉积系统的功能与特点
原子层沉积系统的功能与特点1.精确的原子级薄膜控制通过自限制反应实现原子级薄膜生长与埃米级厚度精确控制。通过控制循环次数即可实现0.1nm级的厚度调控。2.优异保形沉积能力适用于复杂结构及粉体表面改性，满足特殊粉末样品的包覆需求。3.灵活的气路与源配置最多支持八种前驱体源、两路氧化/还原气路及三路载气。独特的高温鼓泡器设计可提高低蒸气压固态源的反应效率和重复性。 4.自动化与安全控制自动化控制系统支持用户自行编程，实现各类复杂ALD生长工艺。系统集成安全互锁报警功能，全面保障设备与操作人员安全。5.多模块扩展能力可选配残余气体分析模块、等离子体模块（PEALD）、QCM原位监测模块、椭偏仪/FRIT光谱原位检测模块等。6.超高真空互联能力原子层沉积系统可与超高真空（UHV）系统（如XPS、STM）直接互联，实现样品的原位分析与制备。7.全金属密封设计适用于腐蚀性反应环境。8.定制化服务可根据用户特殊需求进行定制化设计与扩展。原子层沉积系统应用领域中科艾科米的ALD系统广泛应用于：电子/电气：半导体器件、微纳电子航空航天：高性能涂层与防护催化：金属催化剂的精准设计与机理研究材料改性：粉体表面包覆与改性新能源材料：电池材料、光电材料
页:
[1]